等（děng）離子清洗（PLASMA）是一（yī）種依靠處於“等離（lí）子態”的物質的“活化作用”，來去除物體表麵汙漬（zì）的一種（zhǒng）清（qīng）洗方法（fǎ）。它屬於電（diàn）子工業清洗中的幹法清洗，過程中（zhōng）需要真空泵製造一（yī）定的真（zhēn）空條件滿足（zú）清洗所需，東莞市99色在线观看（kè）真空科技有限公司來說說旋片真（zhēn）空（kōng）泵在等離子清（qīng）洗技術中的應（yīng）用（yòng）過程是怎麽（me）一回事，以（yǐ）及講解一下（xià）旋片真空泵具有（yǒu）什麽特點。

等離子清（qīng）洗所需要的等離子體主（zhǔ）要通（tōng）過特定的氣體分（fèn）子在真空、放電等（děng）特殊場合下產生，像低壓氣體輝光等離子體。簡單地如開頭（tóu）說，等離子清洗需要（yào）在真空（kōng）狀態下進行（一般需保（bǎo）持（chí）在100Pa左右），所以需要德國旋片真空泵進行抽真空作業。

等離子清洗用旋片真空（kōng）泵的過程是如何的？

其主要過程包括：首先將需要清洗的工（gōng）件送入真空（kōng）室固（gù）定，啟動旋片真（zhēn）空泵（bèng）等裝置開始抽真空（kōng）排氣到（dào）10Pa左右的真空度（dù）；接著向真空室引入等（děng）離子清洗用的氣體（根據清洗材質的不同，選用的氣體也不同，如氧（yǎng）氣、氫氣、氬氣、氮氣（qì）等），並將壓力保持在100Pa左右（yòu）；在真（zhēn）空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，並通過輝光放電使其發生離子化，產生等（děng）離子體；在真空室內產生的等離子體完全覆蓋被清洗工件後，開始（shǐ）清洗作業，清洗過程會持續幾十秒到幾分鍾。整個過程就是依靠等離子體在電磁場內空間運動，並轟擊被處（chù）理物體表麵，從而達到表麵處理、清洗和刻蝕的（de）效果（清洗（xǐ）過程某種程度就是輕微的蝕刻工藝）；清洗完畢後，排出汽化（huà）的汙（wū）垢及清洗氣體，同時向真（zhēn）空室內送入空氣恢複至正常大氣壓。

清洗過程中，在旋片真空泵控製真空（kōng）室的真空環境時，氣體的（de）流量決定了發光色度：如果（guǒ）色（sè）度較重，說明真空度低，氣體流量較大；而偏白時，則是真（zhēn）空度（dù）過高，氣體（tǐ）流量較小；具體需要根據所需（xū）的處理效（xiào）果，來確定真空泵要實現的真空度。

等離子清洗技術不（bú）分處理對象（xiàng）的基材類型，對金屬、半導體、氧化物和大多（duō）數高分子材料（如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧（yǎng）、甚至聚四氟乙烯）等原基材料（liào）都能（néng）很（hěn）好處理，並可實現整體和局部以及複雜結構（gòu）的清洗，還具備環保、安全、易控製等優勢（shì），因（yīn）此在（zài）很多方麵，尤其是精密（mì）件清洗、新（xīn）半導體材料研究以及集成電路器件製造業中逐漸取代了（le）濕法清洗工藝。

普諾（nuò）克旋片真空泵在等離子清洗技術中的應用（yòng）同國內（nèi）同類其他產品相比的優（yōu）點：

1.使用方便，安裝，維（wéi）護簡單；

2.旋片真空泵設有氣鎮閥，可抽除少量水（shuǐ）蒸氣；

3.旋片真空泵的極限真空度高；

4.內裝強（qiáng）製進油，潤滑充分，性（xìng）能可（kě）靠；

5.設有自動防返油雙重保（bǎo）險裝置；

6.保持（chí）進氣壓強為1.33×10Pa時仍可連續運轉；

7.不（bú）漏油、不噴油（yóu）、不汙染（rǎn）工作環境。